- 您所在的位置：首頁
應用領域:
-
-
主要技術指標：真空度<1e-6mBar，薄膜淀積速率1~10nm/min 功能/應用范圍：離子束濺射，可用于金屬薄膜淀積和樣品物理刻蝕 主要測試和研究領域...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：重復頻率1KHz,單脈沖能量600微焦耳，脈沖寬度50fs 功能/應用范圍：超快光譜學、非線性光學 主要測試和研究領域：電子/信息技術 收費標準：其它收...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：8寸 功能/應用范圍：拋光硅片 主要測試和研究領域：電子/信息技術 收費標準：其它收費方式 ...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：1.真空腔尺寸:Φ1100×12002.極限真空度:2×10-4Pa3.坩堝容積:2×1000ml3.電子槍功率：10kW 功能/應用范圍：可用于氧化物等薄...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標： *dc-4.1GHz頻率覆蓋，具有36MHz分析帶寬 *靈活的解調，對許多標準制式的單鍵設置 *Agilent獨特的差錯分析特性，包括隨時間變化的EVM，隨時間變化的相...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：1、Loadlock預抽真空；2、本底真空：2*10e-8Torr；3、基板加熱，0-400度；4、基板旋轉速度可調，1-20rpm；5、三路氣體，可反應濺射；6、五個2英寸濺射槍，和一個3...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：電流精度10fA電容高頻1MHz 功能/應用范圍：用于半導體器件的電學(IV、CV)特性測試 主要測試和研究領域：電子/信息技術 ...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：AFM噪聲水平0.3,可對云母、石墨原子像成像控制器反饋相應時間：2s,采樣率50MHZ掃描范圍：0.4μm×0.4μm×0.4μm或10μm×10μm×2...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：樣品尺寸為4寸硅片濺射室極限真空優于1.210-6Pa，進樣室(loadlock)真空優于6.710-4Pa淀積薄膜厚度均勻性優于3%襯底可加熱，溫度最高可達800oC 功能/應用范...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：極限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)準備室6.710-4Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應濺射，可對樣...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：數字通道：16路P1000數字通道；128路C400e數字通道；80路C200e數字通道模擬通道：一塊AV8，含四路24bit音頻DAC/ADC模塊，四路14bit視頻DAC/ADC模塊一塊WGD，500MspsAW...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：納米壓痕試驗縱向載荷力和位移可實現的最大載荷：10mN位移分辨率：0.0004nm可實現的最大位移：5μm2納米劃痕試驗橫向載荷力和位移可實現的最小橫向力：<5μN...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：分辨率10X10納米Multimode8型 功能/應用范圍：納米材料表面形貌、納米薄膜粗糙度研究，納米材料粒徑測量、納米復合材料相組成研究及復合材料界面研究...
上海楊浦區
-
-
功能及用途 用于各種材料壓片尤其是熒光材料的高清晰觀察并進行拍照、圖象分析 主要技術指標 載物臺垂直運動：25mm行程，帶有粗調限位器，最...
河北石家莊
-
-
物理特性測試系統 (physical property measurement system)
主要技術指標：溫度范圍：1.9-400K；磁場：+-9TACMS選件：交流磁化率：2*10-8emu；直流磁化率：2.5*10-5emu；VSM選件：直流磁化率：10-7emuACT交流電輸運；Resistivity電阻(<=4M歐姆...
上海楊浦區
-
-
超高真空分子束外延生長和原位測量系統 (vacuum system for surface studies)
主要技術指標：真空度優于1＊10-10torr 功能/應用范圍：超高真空生長磁性金屬超薄膜以及復雜氧化物薄膜 技術特色：能夠生長各種臺階樣品以及楔形...
上海楊浦區
-
-
主要技術指標：Avg.ModelockedPower:>300mW Bandwidth:>70nm CentralWavelength(nominal):800nm RepetitionRate:80MHz PulseWidth:<20fs Internal...
上海楊浦區
-
-
功能用途： 應用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業。 磁控濺射鍍膜機主要是使用直流(或中頻)磁控濺射，可...
河北石家莊
-
-
強磁場低溫系統 (Low temperature superconducting magnet system)
主要技術指標：最大磁場15T，最低溫度300mK 功能/應用范圍：低溫時測量樣品在磁場下電學輸運性質 技術特色：垂直樣品的磁場能達到15T，測量噪聲低 ...
-
-
電子束蒸發系統 (Thin Film Depostion System)
主要技術指標：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc 功能/應用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜 主要測試和研究領域：電子/信...
上海楊浦區
