檢測(cè)認(rèn)證人脈交流通訊錄

主要技術(shù)指標(biāo):極限真空:成膜室 1.210-6 Pa (load lock)準(zhǔn)備室 6.710-4 Pa樣品尺寸:4寸(1片/次)可通3路氣體:Ar、N2、O2(50 sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應(yīng)濺射,可對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)濺射清洗;襯底溫度: 800 oC厚度均勻性:優(yōu)于±3%靶材尺寸:2寸(磁性:2 mm厚;非磁性:5 mm厚)
功能/應(yīng)用范圍:該設(shè)備是制備超薄金屬氧化物緩沖層、阻變薄膜、鐵電薄膜的關(guān)鍵設(shè)備.
技術(shù)特色:-
主要測(cè)試和研究領(lǐng)域:電子/信息技術(shù)
收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn):其它收費(fèi)方式
儀器負(fù)責(zé)人:林殷茵,陳潔 電話:65642198
電子郵件:zhoupengfudan@gmail.com


