主要技術(shù)指標(biāo)：極限真空：成膜室 1.210-6 Pa (load lock)準(zhǔn)備室 6.710-4 Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50 sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應(yīng)濺射，可對(duì)樣品進(jìn)行預(yù)濺射清洗；襯底溫度： 800 oC厚度均勻性：優(yōu)于±3%靶材尺寸：2寸(磁性：2 mm厚；非磁性：5 mm厚)

功能/應(yīng)用范圍：該設(shè)備是制備超薄金屬氧化物緩沖層、阻變薄膜、鐵電薄膜的關(guān)鍵設(shè)備.

技術(shù)特色：-

主要測(cè)試和研究領(lǐng)域：電子/信息技術(shù)

收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)：其它收費(fèi)方式

儀器負(fù)責(zé)人：林殷茵,陳潔 電話：65642198

電子郵件：zhoupengfudan@gmail.com