主要技術(shù)指標:真空度<1e-6mBar,薄膜淀積速率1~10nm/min
功能/應(yīng)用范圍:離子束濺射,可用于金屬薄膜淀積和樣品物理刻蝕
主要測試和研究領(lǐng)域:電子/信息技術(shù)
收費標準:其它收費方式
儀器負責(zé)人:茹國平,陳潔
電話:65643561
電子郵件:gpru@fudan.edu.cn
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