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儀器類別:
應(yīng)用領(lǐng)域:
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主要技術(shù)指標(biāo)：真空度<1e-6mBar，薄膜淀積速率1~10nm/min 功能/應(yīng)用范圍：離子束濺射，可用于金屬薄膜淀積和樣品物理刻蝕 主要測(cè)試和研究領(lǐng)域...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：重復(fù)頻率1KHz,單脈沖能量600微焦耳，脈沖寬度50fs 功能/應(yīng)用范圍：超快光譜學(xué)、非線性光學(xué) 主要測(cè)試和研究領(lǐng)域：電子/信息技術(shù) 收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)：其它收...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：8寸 功能/應(yīng)用范圍：拋光硅片 主要測(cè)試和研究領(lǐng)域：電子/信息技術(shù) 收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn)：其它收費(fèi)方式 ...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：1.真空腔尺寸:Φ1100×12002.極限真空度:2×10-4Pa3.坩堝容積:2×1000ml3.電子槍功率：10kW 功能/應(yīng)用范圍：可用于氧化物等薄...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)： *dc-4.1GHz頻率覆蓋，具有36MHz分析帶寬 *靈活的解調(diào)，對(duì)許多標(biāo)準(zhǔn)制式的單鍵設(shè)置 *Agilent獨(dú)特的差錯(cuò)分析特性，包括隨時(shí)間變化的EVM，隨時(shí)間變化的相...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：1、Loadlock預(yù)抽真空；2、本底真空：2*10e-8Torr；3、基板加熱，0-400度；4、基板旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)，1-20rpm；5、三路氣體，可反應(yīng)濺射；6、五個(gè)2英寸濺射槍，和一個(gè)3...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：電流精度10fA電容高頻1MHz 功能/應(yīng)用范圍：用于半導(dǎo)體器件的電學(xué)(IV、CV)特性測(cè)試 主要測(cè)試和研究領(lǐng)域：電子/信息技術(shù) ...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：AFM噪聲水平0.3,可對(duì)云母、石墨原子像成像控制器反饋相應(yīng)時(shí)間：2s,采樣率50MHZ掃描范圍：0.4μm×0.4μm×0.4μm或10μm×10μm×2...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：樣品尺寸為4寸硅片濺射室極限真空優(yōu)于1.210-6Pa，進(jìn)樣室(loadlock)真空優(yōu)于6.710-4Pa淀積薄膜厚度均勻性優(yōu)于3%襯底可加熱，溫度最高可達(dá)800oC 功能/應(yīng)用范...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：極限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)準(zhǔn)備室6.710-4Pa樣品尺寸：4寸(1片/次)可通3路氣體：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通濺射、共濺射和反應(yīng)濺射，可對(duì)樣...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：數(shù)字通道：16路P1000數(shù)字通道；128路C400e數(shù)字通道；80路C200e數(shù)字通道模擬通道：一塊AV8，含四路24bit音頻DAC/ADC模塊，四路14bit視頻DAC/ADC模塊一塊WGD，500MspsAW...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：納米壓痕試驗(yàn)縱向載荷力和位移可實(shí)現(xiàn)的最大載荷：10mN位移分辨率：0.0004nm可實(shí)現(xiàn)的最大位移：5μm2納米劃痕試驗(yàn)橫向載荷力和位移可實(shí)現(xiàn)的最小橫向力：<5μN...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：分辨率10X10納米Multimode8型 功能/應(yīng)用范圍：納米材料表面形貌、納米薄膜粗糙度研究，納米材料粒徑測(cè)量、納米復(fù)合材料相組成研究及復(fù)合材料界面研究...
上海楊浦區(qū)
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功能及用途 用于各種材料壓片尤其是熒光材料的高清晰觀察并進(jìn)行拍照、圖象分析 主要技術(shù)指標(biāo) 載物臺(tái)垂直運(yùn)動(dòng)：25mm行程，帶有粗調(diào)限位器，最...
河北石家莊
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物理特性測(cè)試系統(tǒng) (physical property measurement system)
主要技術(shù)指標(biāo)：溫度范圍：1.9-400K；磁場：+-9TACMS選件：交流磁化率：2*10-8emu；直流磁化率：2.5*10-5emu；VSM選件：直流磁化率：10-7emuACT交流電輸運(yùn)；Resistivity電阻(<=4M歐姆...
上海楊浦區(qū)
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超高真空分子束外延生長和原位測(cè)量系統(tǒng) (vacuum system for surface studies)
主要技術(shù)指標(biāo)：真空度優(yōu)于1＊10-10torr 功能/應(yīng)用范圍：超高真空生長磁性金屬超薄膜以及復(fù)雜氧化物薄膜 技術(shù)特色：能夠生長各種臺(tái)階樣品以及楔形...
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標(biāo)：Avg.ModelockedPower:>300mW Bandwidth:>70nm CentralWavelength(nominal):800nm RepetitionRate:80MHz PulseWidth:<20fs Internal...
上海楊浦區(qū)
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功能用途： 應(yīng)用于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機(jī)殼、電子產(chǎn)品、建材等行業(yè)。 磁控濺射鍍膜機(jī)主要是使用直流(或中頻)磁控濺射，可...
河北石家莊
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強(qiáng)磁場低溫系統(tǒng) (Low temperature superconducting magnet system)
主要技術(shù)指標(biāo)：最大磁場15T，最低溫度300mK 功能/應(yīng)用范圍：低溫時(shí)測(cè)量樣品在磁場下電學(xué)輸運(yùn)性質(zhì) 技術(shù)特色：垂直樣品的磁場能達(dá)到15T，測(cè)量噪聲低 ...
上海楊浦區(qū)
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電子束蒸發(fā)系統(tǒng) (Thin Film Depostion System)
主要技術(shù)指標(biāo)：電子槍功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋轉(zhuǎn)樣品托(可液氮冷卻)，坩堝5*2.24cc 功能/應(yīng)用范圍：蒸鍍各種金屬薄膜 主要測(cè)試和研究領(lǐng)域：電子/信...
上海楊浦區(qū)
