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應用領域:
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主要技術指標：3準直管小角散射系統(tǒng)，30W高壓發(fā)生器，Hi-Star二維實時探測器，雙Goebel鏡平行光技術，自動進樣器，全套真空系統(tǒng)，包括溫度控制器，2θ范圍為0.2°至2.8°...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：點分辨率:0.19nm晶格分辨率:0.10nm掃描透射晶格分辨率:0.2nm能譜能量分辨率：136eV功能/應用范圍：1.微結構研究：材料的形貌、缺陷和界面的分析；包括衍襯成...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：儀器光譜分辨率：1-2cm-1；靈敏度：硅三階峰信噪比好于10：1；儀器重復性：50次重復性好于+0.2cm-1，激光阻擋水平好于1014；三個波長低波數(shù)均好于100cm-1；光譜范...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：最大輸出功率3kW，配有Cu靶和陶瓷X光管，采用點、線雙焦斑設計；測角儀采用光學編碼器技術與步進馬達雙重定位，2轉動范圍為-10~168，測角儀半徑≥200mm，測角圓直徑可連續(xù)...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：這是一套進行XPS和UPS測量的高分辨低溫光電子譜儀。譜儀的真空度為1E-8Pa。電子能量分辨率為3meV，動量分辨率為0.1度。樣品處最低溫度為7.2K?！ 」δ?..
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：溫度區(qū)間：1.8-400K；降溫速度：30K/min,300K>T>10K;10K/min,10K>T>1.8K樣品腔內(nèi)徑：9mm;磁場強度：0-7特斯拉；磁場均勻度：4cm范圍內(nèi)達到0.01%；勵磁...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：X射線發(fā)生器：最大輸出功率：3kW，光管功率：2kW；最大管壓：50kV；最大管流：60mA。測角儀：采用光學編碼器技術；測角儀半徑：185~285mm可調(diào)；轉動范圍：-110...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：靈敏度：低至飛克(fg)掃描速度：5200u/sec分辨率：0.7u，1.2u，2.5u最小駐留時間：2ms質量范圍：m/z15-3000 功能/應用范圍：液相色譜-三重串聯(lián)四極桿(...
上海徐匯區(qū)
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技術指標：高分子材料（乳液、涂料等）制備中試裝置，也可用于產(chǎn)量需求較低的高分子材料的工業(yè)生產(chǎn)。反應釜容量20L，電加熱系統(tǒng)，溫度無級調(diào)控，并配備水冷凝塔制冷，工作安全可靠。儀器用途...
江蘇
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技術指標：新一代的AFC使GC-2010在標準配置下即可滿足快速分析所需要的高柱頭壓（970kPa）、高載氣流速（1200mL/min）等苛刻要求，使主機不需添加任何附件即可使用0.1mm，甚至0.05mm窄口徑的快...
江蘇
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技術指標：輸液方式：串聯(lián)雙柱塞柱塞容量：主泵頭47μL、副泵頭23μL最大排液壓力：40MPa流量設定范圍：0.001mL/min-10.000mL/min流量準確度：2%或2μL/min其中較大值以內(nèi)流量精密度：0.1%RSD...
江蘇
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技術指標：光譜帶寬：4nm；波長范圍：325～1000nm；波長精度：±1nm；穩(wěn)定性：±0.004A/hr（在500nm);雜散光：≤0.2%T（在340、400nm處）；光度范圍：0-125%T，-0.097-2.50A、0-1999C、0-1999F：...
江蘇
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技術指標：1.光源:高強度冷光源2.帶寬:激發(fā):10/20nm發(fā)射：10nm3.激發(fā)波長選擇范圍（Ex）:250～600nm可擴展為250～850nm（濾光片選擇）4.標配４種激發(fā)波長:365nm、406nm、480nm、525...
江蘇
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技術指標：測定范圍：10mPa.s~20000000mPa.s;測量誤差±5%；外形尺寸：105mmX120mmX160mm(不包括底座）；凈重：2.5kg（不包括底座）。本儀器可測定牛頓型液體絕對粘度（動力粘度）。廣泛應用于油...
江蘇
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主要技術指標：2nm 功能/應用范圍：1.利用二次電子成像，對各種固體樣品表面進行高分辨形貌觀察。2.利用背散射電子成像，生成化學成分分布圖像。3.用x射線能譜儀，在...
上海楊浦區(qū)
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入射信號：離子；出射信號：離子；分析深度：約3nm；靈敏度：ppm；分析信息：所有元素定性；橫向分辨率：10微米
廣東
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主要技術指標：(1)深度分辨率：幾個納米；(2)空間分辨率：<一個微米；(3)質量分辨率：m/m5000(4)檢測靈敏度：ppmppb；(5)絕緣層厚度為幾個微米的樣品質譜分析 功能...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：1)Chambersize:600*750*620mm2)Ultimatepressure:8.0*10-7mbar3)3*4"Magnetrons(2*DC&1*rf)4)Co-sputteringprocess5)targetdiameter:100mm...
上海楊浦區(qū)
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主要技術指標：掃描電鏡的主要原理是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。真空值為5×10-3～2000Pa可調(diào)整，放大倍率為4到500,000倍，分辨率：3.0~4.0nm@30kV?！ ?..
上海楊浦區(qū)
