主要技術指標:1)Chamber size: 600*750*620mm 2)Ultimate pressure: 8.0*10-7 mbar 3)3*4" Magnetrons(2*DC & 1*rf) 4)Co-sputtering process 5)target diameter: 100mm
功能/應用范圍:可用于金屬、半導體、氧化物等材料的薄膜制備
主要測試和研究領域:材料/珠寶首飾儀器/儀表能源/核技術
收費標準:其它收費方式
儀器負責人:李晶
電話:65643439
電子郵件:lijing@fudan.edu.cn
傳真:65643422
其他聯系方式:65643422