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儀器類別:
應(yīng)用領(lǐng)域:
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主要技術(shù)指標：掃描電鏡的主要原理是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。真空值為5×10-3～2000Pa可調(diào)整，放大倍率為4到500,000倍，分辨率：3.0~4.0nm@30kV?！ ?..
上海楊浦區(qū)
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主要技術(shù)指標：變溫范圍：室溫～1000°C，樣品容量：60ml/1.3g，天平靈敏度：0.1mg，升溫/降溫速率：0.1°C/min～200°C/min，樣品氣氛：氮氣、空氣?！ 」δ?...
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主要技術(shù)指標：質(zhì)量準確度：線性模式：內(nèi)標法≤50ppm，外標法≤60ppm；反射模式：內(nèi)標法≤1ppm，外標法≤10；MS/MS模式：≤0.02Da質(zhì)量分辨率：MS反射模式：≥46,000...
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掃描電鏡/能譜儀 (Scanning Electron Microscope)
主要技術(shù)指標：點分辨率3.5nm，放大倍率15-300000倍?！ 」δ?應(yīng)用范圍：納米材料，介觀材料，半導(dǎo)體材料，高分子材料，生物材料等形貌觀察，以及微觀區(qū)域的在線元素分析。...
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透射電子顯微鏡 (Transmission Electron Microscope)
主要技術(shù)指標：點分辨率0.23nm，晶格分辨率0.14nm，放大倍率200-1500000?！ 」δ?應(yīng)用范圍：納米材料，高分子材料，半導(dǎo)體材料，介觀材料，微孔材料等的形貌觀察、結(jié)構(gòu)...
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主要技術(shù)指標：場強:11.5T1H共振頻率:500Hz發(fā)射機功率:100w(500Hz)300w(6-240Hz)靈敏度:1H288:1(0.1%乙基苯)分辨率:＜0.25Hz 功能/應(yīng)用范圍：主要可進行液體樣品的NMR測定?？?..
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瞬態(tài)/穩(wěn)態(tài)熒光光譜儀 (Combined Fluorescence Lifetime &Steady State
主要技術(shù)指標：光譜儀探測范圍：(光電倍增管，190-870nm；Ge探測器，800-1700nm)熒光壽命測量范圍：100ps-10s信噪比：6000：1(水峰Raman)可以配用制冷系統(tǒng)，為樣品提供變溫環(huán)境液氮系統(tǒng)(77K-...
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共聚焦顯微鏡系統(tǒng) (Laser Scanning Confocal Microscope)
主要技術(shù)指標：OlympusBX61倒置顯微鏡通道：3＋1，AOTF藍紫激光：405nmAr離子多線激光器：458，477，488，514nmHe-Ne激光：543nmHe-Ne激光：633nm；980nm半導(dǎo)體激光器；鏡頭包括10×...
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主要技術(shù)指標：質(zhì)量范圍20~3000.000m/zMS：內(nèi)標法3ppmRMS誤差；外標法5ppmRMS誤差MS質(zhì)量分辨率：15,000(FWHM)自動溫度補償系統(tǒng)數(shù)據(jù)采集率(2GHz采樣率)，20Hz(每秒可獲取20幅...
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主要技術(shù)指標：1.分辨率EnergyResolution:在MnKa線處測量分辨率≤127eVEnergyresolution≤127eV,atMnKaline2.超輕元素分辨率LightElementEnergyResolution:在FKa線處測量分...
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主要技術(shù)指標：分辨率：高真空成像，最佳工作距離0.8nm@30kV(STEM)1.0nm@15kV(TLD-SE)1.4nm@1kV(TLD-SE)，非減速模式3.5nm@100V(DBS)高真空分析，分析工作距離3.0nm@...
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單頻可調(diào)諧鈦寶石激光系統(tǒng) (pulse dye laser)
主要技術(shù)指標：Verdi-V10:10W532nmMBR110EL:>1.5w700nm-1000nmMBD-20020mw-500mw350nm-500nm?功能/應(yīng)用范圍：超高分辨率拉曼光譜；可調(diào)諧紫外光源；光致發(fā)光；原子誘捕和冷...
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主要技術(shù)指標： 低劑量率研究輻射裝置,樣品照射腔容積7.5升,劑量率0.78Gy/分. 功能/應(yīng)用范圍： 適合于小動物整體或局部輻射效應(yīng)研究,細胞和分...
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主要技術(shù)指標：場強:7.04T1H:共振頻率300Hz發(fā)射機功率:1000w×2梯度場強度:1000G/cm靈敏度:1H157:1(0.1%乙基苯)13C110:1(10%乙基苯)13C250:1(金剛烷)15N10:1(氨基乙酸)分辨率:1H≤0.2...
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