- 您所在的位置：首頁
儀器類別:
應(yīng)用領(lǐng)域:
-
-
場發(fā)射透射電子顯微鏡(Field Emission Transmission Electron Microscope)
主要技術(shù)指標：點分辨率：0.24nm,晶格分辨：0.102nm,信息分辨率：0.14nm,STEM分辨率：0.20nmEDS(能譜儀)能量分辨率：<127eV,元素范圍：Be-Cf 功能/應(yīng)用范圍：納米材...
上海楊浦區(qū)
-
-
電子束蒸發(fā)系統(tǒng) (Electron Beam Evaporator)
主要技術(shù)指標：.真空<3X10-9托 功能/應(yīng)用范圍：現(xiàn)有功能：a.三個室:進樣室、分析室、生長室。b.二個蒸發(fā)源、一個P型摻雜源和一路反應(yīng)氣體c.反射高能電子衍射儀(RHEED)d.四...
上海楊浦區(qū)
-
-
拉曼熒光光譜儀 (Raman fluorescent Spectrograph)
主要技術(shù)指標：配有633nm激光，也可以引入其他波長激光器，鏡頭有10，40，50倍，可以進行熒光的測量和拉曼散射的測量 功能/應(yīng)用范圍：測量熒光光譜，拉曼散射譜 ...
上海楊浦區(qū)
-
-
熒光光譜儀 (Fluorescence spectroscope)
主要技術(shù)指標：焦距320mm孔徑f/4.1光譜范圍150~1500nm，用1200條/mm光柵；光柵尺寸68mmx68mm支座上最多可裝光柵數(shù)3平場尺寸30mmx12mm分辨率(用出口狹縫和光電倍增管時)0.06nm波...
上海楊浦區(qū)
-
-
氧化物薄膜分子束外延設(shè)備 (oxide molecular beam exptaxy system)
主要技術(shù)指標：真空度10e-9mbar8個單質(zhì)蒸發(fā)源單原子層精度控制氧化物薄膜生長襯底10X10mm 功能/應(yīng)用范圍：小尺寸氧化物薄膜生長 技術(shù)特色：單原子層精度控制氧化...
上海楊浦區(qū)
-
-
主要技術(shù)指標：Avg.ModelockedPower:>300mW Bandwidth:>70nm CentralWavelength(nominal):800nm RepetitionRate:80MHz PulseWidth:<20fs Internal...
上海楊浦區(qū)
