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射頻磁控濺射鍍膜儀

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　　射頻磁控濺射鍍膜儀　　主要應(yīng)用于配套掃描電鏡的樣品制備工作，同時(shí)可以滿足不同用戶對(duì)樣品涂層的制備要求。擁有優(yōu)秀的濺射系統(tǒng)，可以更換不同的金屬靶材（金，鉑，銀，銥，鉻，銅等），實(shí)現(xiàn)高要求的細(xì)粒涂層。GVC系列為您提供優(yōu)質(zhì)的樣品制備，輕松助您取得更好地材料研究樣品，獲得高質(zhì)量的顯微鏡觀測(cè)效果。　　GVC-1000 全自動(dòng)離子濺射儀(射頻磁控濺射鍍膜儀)性能參數(shù) 　　1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射　　2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等　　3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃　　4、全自動(dòng)操作，簡(jiǎn)單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等　　（1）濺射電流自動(dòng)調(diào)整——設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜±5%；　　（2）無需按“實(shí)驗(yàn)”鍵調(diào)整濺射電流、無需操作“進(jìn)氣閥”。　　（3）濺射時(shí)間自動(dòng)記憶——同類樣品一次設(shè)定即可；　　（4）參數(shù)改變自動(dòng)調(diào)整——濺射過程中可以隨時(shí)調(diào)整濺射電流和濺射時(shí)長(zhǎng)，系統(tǒng)自動(dòng)計(jì)算疊加，無需終止濺射過程；　　（5）工作完成自動(dòng)放氣；　　（6）樣品臺(tái)高度調(diào)節(jié)1秒完成；　　（7）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。　　（8）極限真空：小于1Pa 　　5、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠　　（1）真空度高于100Pa，啟動(dòng)真空保護(hù)，無法濺射；　　（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；　　（3）真空泵工作時(shí)，系統(tǒng)無法進(jìn)行放氣操作；　　6、鍍層均勻，導(dǎo)電性良好。　　https://www.chem17.com/st506164/product_38091672.html 　　http://www.gevee-tech.com.cn/product/198.html

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