檢測認證人脈交流通訊錄
- 儀器名稱：電感耦合等離子體反應離子刻蝕機
- 價格型號：AST Cirie-200S
- 儀器分類：其他
- 應用領域：禮品 工藝品;電子元器件;冶金礦產
- 所屬單位：中山大學
- 所在地點：海珠區新港西路135號
- 產 地：
- 產 商：臺灣聚昌科技股份有限公司
- 價 值：0
- 購置日期：2010-07-29
主要技術指標
蝕刻反應室抽氣速率：真空度<5.0×10^-5Torr(15分鐘內)；蝕刻反應室極限真空：8.0×10^-6Torr；裝載室抽氣速率：真空度<5.0×10^-2Torr(5分鐘內)；蝕刻速率>280nm/min；非均勻性≤±5%
主要功能
進行GaNg,GaAs,InP等材料的蝕刻
技術特色
真空環境下的半導體新材料制備
主要測試或應用領域
材料/珠寶首飾,電子/信息技術
