聯系人:蔣雪茵(13761269615)
儀器簡介:
該設備主要用于在真空條件下蒸發各種有機薄膜。
主要技術指標:
蒸發室尺寸:Φ400×620mm,極限真空:9×10-5Pa,基片旋轉速度4-40轉/分,連續可調。蒸發源采用電阻加熱,功率為2000W。基片進出傳輸方式:手動直線運動。并配有膜厚監控裝置,精度達到0.1A。
應用范圍:
主要用于蒸發各種有機材料及金屬材料,用于制備各種有機電子器件。
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