主要技術指標:系統的極限壓強可達≤5x10-8Torr;30分鐘從大氣壓抽到≤5x10-6Torr;坩堝的數目4個,坩堝的容量不小于7cc;電子槍功率不小于5kW。
功能/應用范圍:主要用于微納器件加工及光學薄膜、電輸運性質測量過程中高質量、厚度精確控制的金屬及氧化物薄膜的蒸鍍。主要蒸鍍材料包括:鈦、金、鎳、銀、鋁、三氧化二鋁、二氧化硅等薄膜等金屬單質、氧化物等;并特別考慮對Liftoff工藝的適合性。
主要測試和研究領域:電子/信息技術
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