主要技術指標:樣品尺寸:2,4,6英寸基片,兼容加工小片和碎片;有加熱和冷卻裝置;下電極溫度范圍-150°C…+400°C;刻蝕氣體8路:HBr,SF6,C4F8, CHF3,BCl3, O2, N2, Ar。
功能/應用范圍:反應離子刻蝕機通過交變的電磁場在有反應氣體的腔室內激發等離子體,通過等離子體中的氣體離子和化學活性的自由基與材料表面的化學反應和離子轟擊材料表面的物理過程刻蝕材料。反應離子刻蝕機主要用于納米和微米器件的精細加工,用于硅基材料、介電材料刻蝕、III-Ⅴ族化合物以及金屬薄膜刻蝕。
主要測試和研究領域:儀器/儀表