檢測認證人脈交流通訊錄
主要技術指標:極限真空度:7*10-5Pa;基片每次裝載數量:1片;基片加熱溫度:室溫~300OC;充氣控制回路:2路;樣品臺旋轉速度:15轉/分鐘;樣品架溫度:室溫~300OC;束源爐溫度:室溫~500OC;蒸發舟溫度:室溫~1200OC。
主要附件及功能:功能:該設備是在高真空條件下,通過加熱材料的方法,在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜,在襯底上沉積各種金屬或合金電極并通過封裝手套箱封裝成簡單器件。主要用于有機半導體材料的物理化學性能研究實驗及有機半導體器件的原理研究實驗。
主要應用領域:電子與測量
檢測項目:可用于各種有機材料及部分金屬材料為蒸發源的蒸鍍,并可一次裝機進行四種不同鍍膜材料的蒸鍍。
儀器聯系人:李宏建
聯系人電話:0731-88877259


